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真空在半導(dǎo)體制造中非常重要，在半導(dǎo)體工業(yè)中，真空環(huán)境被用于各種制程，包括物理氣相沉積 (Physical Vapor Deposition, PVD)、化學(xué)氣相沉積 (Chemical Vapor Deposition, CVD)、原子層沉積 (Atomic Layer Deposition, ALD)、離子注入 (Ion Implantation)、等離子刻蝕 (Plasma Etching) 等等。那么今天就來介紹一下真空這個(gè)常見卻讓人一知半解的概念。真空的定義"真空"是指比大氣壓低的任何壓強(qiáng)。在真空環(huán)境中，氣體的分子數(shù)量極少，以至于在給定的空間中，物質(zhì)之間的相互作用極為稀少。真空的程度（即壓力）可以從低真空到超高真空不等，其中壓力越低，真空越接近完全真空。真空系統(tǒng)是確保嚴(yán)格控制低壓和衛(wèi)生條件的一種方式。真空泵抽空處理室內(nèi)部的氣體，將壓力降至所需水平。一旦所有大氣氣體都被移除，就會(huì)引入特種氣體，如氮?dú)狻鍤夂秃?。這些氣體的惰性意味著它們?yōu)榘雽?dǎo)體加工提供了一個(gè)清潔的環(huán)境，并防止了不必要的化學(xué)反應(yīng)，從而提高了生產(chǎn)效率。通過回收和再循環(huán)高級(jí)氣體（即氬氣、氦氣）可以進(jìn)一步提高生產(chǎn)率。真空的分類盡管統(tǒng)稱為真空，但也分為若干類。 低真空　　100 kPa～100 Pa，低真空通常指的是那些壓力略低于大氣壓，但仍然有大量氣體分子存在的環(huán)境。在這樣的環(huán)境中，氣體分子之間的碰撞仍然是主要的物理過程。