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池田屋現(xiàn)貨USHIO牛尾 UX-4486SC 投影曝光裝置
池田屋現(xiàn)貨USHIO牛尾 UX-4486SC 投影曝光裝置
USHIO 一直提供專門用于服務(wù)器、個人電腦、智能手機(jī)和平板電腦等移動設(shè)備中使用的封裝應(yīng)用的步進(jìn)機(jī)。這是一款封裝基板用步進(jìn)機(jī),采用了Ushio多年來積累的光源和光學(xué)技術(shù)以及我們 的大面積投影透鏡技術(shù),并使用了與面板尺寸相對應(yīng)的平臺。它實現(xiàn)了高生產(chǎn)率,同時實現(xiàn)了封裝基板所需的高分辨率和覆蓋精度。
[元件技術(shù)]
配備全球占有率第一的超高壓UV燈
具有高均勻性的 照射光學(xué)系統(tǒng)
的大面積投影鏡頭
響應(yīng)基板特定畸變的對準(zhǔn)技術(shù)
的TTL非曝光波長/對準(zhǔn)方法
Ushio的技術(shù)“TTL非曝光波長對準(zhǔn)"在觀察掩模標(biāo)記時無需暴露基板上的對準(zhǔn)標(biāo)記。此外,由于可以直接觀察工件標(biāo)記,因此不會因掩模而降低對比度,并且可以與清晰的標(biāo)記進(jìn)行高精度對準(zhǔn)。
兼容多種對準(zhǔn)標(biāo)記
由于支持對已登記圖案的圖案匹配,因此無需專用對準(zhǔn)標(biāo)記,即可與各種布線圖案進(jìn)行對準(zhǔn)。
高分辨率能力
配備Ushio投影鏡頭“UPL系列"以實現(xiàn)高分辨率。支持全面量產(chǎn),設(shè)計規(guī)則線距=5μm。
深景深
由于焦點(diǎn)深度較深(±50 至 100 μm),因此即使由于基板的臺階、翹曲或波紋而導(dǎo)致焦點(diǎn)偏離,也可以獲得與正確對焦時相同的圖案輪廓。當(dāng)曝光較厚的干膜、阻焊劑等時尤其有效。
使用表面平臺進(jìn)行高速步進(jìn)和重復(fù)
通過使用精密空氣軸承消除摩擦,并通過平面電機(jī)結(jié)構(gòu)使運(yùn)動部件更輕、更堅固,實現(xiàn)了高速步進(jìn)重復(fù)操作。此外,表面平臺使用激光干涉儀進(jìn)行反饋控制,實現(xiàn)高速運(yùn)行和高定位精度。
面罩無損傷
模型 | UX-4486SC | UX-44101SC | UX-4423SC | UX-4459SC | UX-4440SC | UX-4438SC | UX-4458SC | UX-4477SC |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
面罩尺寸 | □5英寸 | □7英寸、□5英寸 | □9英寸、□7英寸 | |||||
晶圓尺寸 | φ4英寸 | φ6英寸、φ4英寸 | φ8英寸、φ6英寸 | |||||
解決 | 7μm長/秒 | 2μm長/秒 | 9μm長/秒 | 6μm長/秒 | 5μm長/秒 | 12μm長/秒 | 6μm長/秒 | 4μm長/秒 |
總體疊加精度 | ±1.0μm L/S | ±1.0μm L/S | ±1.0μm L/S | ±1.0μm L/S | ±2.0μm L/S | ±1.0μ;m L/S | ±1.0μm L/S | ±1.0μm L/S |
曝光波長 | 洲際線 | 我行 | 洲際線 | 我行 | 我行 | 洲際線 | 我行 | 我行 |
吞吐量 | 120W/小時 | |||||||
選項 | 背面對準(zhǔn)、IR對準(zhǔn)、掩模庫、特殊晶圓支撐 |
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